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等離子清洗機(jī)
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首頁(yè) 新聞資訊 等離子清洗 等離子清洗機(jī)清洗原理分析

等離子清洗機(jī)清洗原理分析

1、什么是等離子清洗機(jī)

等離子清洗機(jī)采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對(duì)被清洗物帶來(lái)的二次污染。等離子清洗機(jī)外接一臺(tái)真空泵,工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉,同時(shí)污染物被真空泵抽走,其清洗程度達(dá)到分子級(jí)。等離子清洗器除了具有超清洗功能外,在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能,等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組,形成新的表面特性。對(duì)某些有特殊用途的材料,在超清洗過(guò)程中等離子清洗器的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤(rùn)性,并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。

等離子清洗機(jī)的應(yīng)用,起源于20世紀(jì)初,隨著高科技產(chǎn)業(yè)的快速發(fā)展,其應(yīng)用越來(lái)越廣,目前已在眾多高科技領(lǐng)域中,居于關(guān)鍵技術(shù)的地位,等離子清洗技術(shù)對(duì)產(chǎn)業(yè)經(jīng)濟(jì)和人類文明影響最大,首推電子資訊工業(yè),尤其是半導(dǎo)體業(yè)與光電工業(yè)。

等離子清洗機(jī)已應(yīng)用于各種電子元件的制造,可以確信,沒(méi)有等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù),就沒(méi)有今日這么發(fā)達(dá)的電子、資訊和通訊產(chǎn)業(yè)。此外,等離子清洗機(jī)及其清洗技術(shù)也應(yīng)用在光學(xué)工業(yè)、機(jī)械與航天工業(yè)、高分子工業(yè)、污染防治工業(yè)和量測(cè)工業(yè)上,而且是產(chǎn)品提升的關(guān)鍵技術(shù),比如說(shuō)光學(xué)元件的鍍膜、延長(zhǎng)模具或加工工具壽命的抗磨耗層,復(fù)合材料的中間層、織布或隱性鏡片的表面處理、微感測(cè)器的制造,超微機(jī)械的加工技術(shù)、人工關(guān)節(jié)、骨骼或心臟瓣膜的抗摩耗層等皆需等離子技術(shù)的進(jìn)步,才能開發(fā)完成。

等離子技術(shù)是一新興的領(lǐng)域,該領(lǐng)域結(jié)合等離子物理、等離子化學(xué)和氣固相界面的化學(xué)反應(yīng),此為典型的高科技產(chǎn)業(yè),需跨多種領(lǐng)域,包括化工、材料和電機(jī),因此將極具挑戰(zhàn)性,也充滿機(jī)會(huì),由于半導(dǎo)體和光電材料在未來(lái)得快速成長(zhǎng),此方面應(yīng)用需求將越來(lái)越大。

2、等離子清洗機(jī)的技術(shù)原理

 什么是等離子體

等離子體是物質(zhì)的一種存在狀態(tài),通常物質(zhì)以固態(tài)、業(yè)態(tài)、氣態(tài)3種狀態(tài)存在,但在一些特殊的情況下可以以第四中狀態(tài)存在,如太陽(yáng)表面的物質(zhì)和地球大氣中電離層中的物質(zhì)。這類物質(zhì)所處的狀態(tài)稱為等離子體狀態(tài),又稱位物質(zhì)的第四態(tài)。

等離子體中存在下列物質(zhì)。處于高速運(yùn)動(dòng)狀態(tài)的電子;處于激活狀態(tài)的中性原子、分子、原子團(tuán)(自由基);離子化的原子、分子;分子解離反應(yīng)過(guò)程中生成的紫外線;未反應(yīng)的分子、原子等,但物質(zhì)在總體上仍保持電中性狀態(tài)。

 等離子體的種類

(1)低溫和高溫可分為高溫等離子體和低溫等離子體兩類,在等離子體中,不同微粒的溫度實(shí)際上是不同的,所具有的溫度是與微粒的動(dòng)能即運(yùn)動(dòng)速度質(zhì)量有關(guān),把等離子體中存在的離子的溫度用Ti表示,電子的溫度用Te表示,而原子、分子或原子團(tuán)等中性粒子的溫度用Tn表示,對(duì)于Te大大高于Ti和Tn的場(chǎng)合,即低壓體氣的場(chǎng)合,此時(shí)氣體的壓力只有幾百個(gè)帕斯卡,當(dāng)采用直流電壓或高頻電壓做電場(chǎng)時(shí),由于電子本身的質(zhì)量很小,在電池中容易得到加快,從而可獲得平均可達(dá)數(shù)電子伏特的高能量,對(duì)于電子,此能量的對(duì)應(yīng)溫度為幾萬(wàn)度(K),而弟子由于質(zhì)量較大,很難被電場(chǎng)加速,因此溫度僅幾千度。由于氣體粒子溫度較低(具有低溫特性),因此把這種等離子體稱為低溫等離子體。當(dāng)氣體處于高壓狀態(tài)并從外界獲得大量能量時(shí),粒子之間的相互碰撞頻率大大增加,各種微粒的溫度基本相同,即Te基本與Ti及Tn相同,我們把這種條件下得到的等離子體稱為高溫等離子體,太陽(yáng)就是自己界中的高溫等離子體。由于高溫等離子體對(duì)物體表面的作用過(guò)于強(qiáng)強(qiáng)烈,因此在實(shí)際應(yīng)用中很少使用,目前投入使用的只有低溫等離子體。

(2)活潑氣體和不活潑氣體等離子體,根據(jù)產(chǎn)生等離子體時(shí)應(yīng)用的氣體的化學(xué)性質(zhì)不同,可分為不活潑氣體等離子體和活潑氣體等離子體兩類,不活潑氣體如氬氣(Ar)、氮?dú)猓∟2)、氟化氮(NF3)、四氟化碳(CF4)等,活潑氣體如氧氣(O2)、氫氣(H2)等,不同類型的氣體在清洗過(guò)程中的反應(yīng)機(jī)理是不同的,活潑氣體的等離子體具有更強(qiáng)的化學(xué)反應(yīng)活性,這將在后面結(jié)合具體應(yīng)用實(shí)例介紹。

等離子體與物體表面的作用

在等離子體中除了氣體分子、離子和電子外,還存在受到能量激勵(lì)狀態(tài)的電中性的原子或原子團(tuán)(又成自由基),以及等離子體發(fā)射出的光線,其中波的長(zhǎng)短、能量的高低在等離子體與物質(zhì)表面相互作用時(shí)有著重要作用。

原子團(tuán)等自由基與物體表面的反應(yīng)

由于這些自由基呈電重型,存在壽命較長(zhǎng),而且在離子體中的數(shù)量多于離子,因此自由基在等離子體中發(fā)揮著重要作用,自由基的作用主要表現(xiàn)在化學(xué)反應(yīng)過(guò)程中能量傳遞的"活化"作用,處于激發(fā)狀態(tài)的自由基具有較高的能量,因此易于與物體表面分子結(jié)合時(shí)會(huì)形成新的自由基,新形成的自由基同樣處于不穩(wěn)定的高能量狀態(tài),很可能發(fā)生分解反應(yīng),在變成較小分子同時(shí)生成新的自由基,這種反應(yīng)過(guò)程還可能繼續(xù)進(jìn)行下去,最后分解成水、二氧化碳之類的簡(jiǎn)單分子。在另一些情況下,自由基與物體表面分子結(jié)合的同時(shí),會(huì)釋放出大量的結(jié)合能,這種能量又成為引發(fā)新的表面反應(yīng)推動(dòng)力,從而引發(fā)物體表面上的物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而被去除。

電子與物體表面的作用

一方面電子對(duì)物體表面的撞擊作用,可促使吸附在物體表面的氣體分子發(fā)生分解和解吸,另一方面大量的電子撞擊有利引起化學(xué)反應(yīng)。由于電子質(zhì)量極小,因此比離子的移動(dòng)速度要快的多,當(dāng)進(jìn)行等離子體處理時(shí),電子要比離子更早達(dá)到物體表面,并使表面帶有負(fù)電荷,這有利于引發(fā)進(jìn)一步反應(yīng)。

離子與物體表面的作用

通常指的是帶正電荷的陽(yáng)離子的作用,陽(yáng)離子有加速?zèng)_向帶負(fù)電荷表面的傾向,此時(shí)使物體表面獲得相當(dāng)大的動(dòng)能,足以撞擊去除表面上附著的顆粒性物質(zhì),我們?cè)谶@種現(xiàn)象稱為濺射現(xiàn)象,而通過(guò)離子的沖擊作用可極大促進(jìn)物體表面化學(xué)反應(yīng)發(fā)生的幾率。

 紫外性與物體表面的反應(yīng)

紫外性具有很強(qiáng)的光能,可使附著在物體表面物質(zhì)的分子鍵發(fā)生斷裂而分解,而且紫外線具有很強(qiáng)的穿透能力,可透過(guò)物體的表面深入達(dá)數(shù)微米而產(chǎn)生作用。

綜上所述,可知等離子清洗是利用等離子體內(nèi)的各種具有高能量的物質(zhì)和活化作用,將附著在物體表面的污垢徹底剝離去除。

3 、等離子清洗機(jī)/等離子清洗設(shè)備的結(jié)構(gòu)及工作原理研究

 等離子清洗機(jī)/等離子清洗設(shè)備的基本構(gòu)造

根據(jù)用途的不同,可選用多種構(gòu)造的等離子清洗設(shè)備,并可通過(guò)選用不同種類的氣體,調(diào)整裝置的特征參數(shù)等方法使工藝流程實(shí)現(xiàn)最佳化,但等離子體清洗裝置的基本結(jié)構(gòu)大致是相同的,一般裝置可由真空室、真空泵、高頻電源、電極、氣體導(dǎo)入系統(tǒng)、工件傳送系統(tǒng)和控制系統(tǒng)等部分組成。通常使用的真空泵是旋轉(zhuǎn)油泵,高頻電源通常用13.56M赫茲的無(wú)線電波,設(shè)備的運(yùn)行過(guò)程如下:

(1)被清洗的工件送入真空室并加以固定,啟動(dòng)運(yùn)行裝置,開始排氣,使真空室內(nèi)的真空程度達(dá)到10Pa左右的標(biāo)準(zhǔn)真空度。一般排氣時(shí)間大約需要2min。

(2)向真空室引入等離子清洗用的氣體,并使其壓力保持在100Pa。

根據(jù)清洗材質(zhì)的不同,可分別選用氧氣、氫氣、氬氣或氮?dú)獾葰怏w。

(3)在真空室內(nèi)的電極與接地裝置之間施加高頻電壓,使氣體被擊穿,并通過(guò)輝光放電而發(fā)生離子化和產(chǎn)生等離子體。讓在真空室產(chǎn)生的等離子體完全籠罩在被處理工件,開始清洗作業(yè)。一般清洗處理持續(xù)幾十秒到幾分鐘。

(4)清洗完畢后切斷高頻電壓,并將氣體及汽化的污垢排出,同時(shí)向真空室內(nèi)鼓入空氣,并使氣壓升至一個(gè)大氣壓。

等離子清洗的特點(diǎn)和優(yōu)勢(shì)

與濕法清洗相比,等離子清洗的優(yōu)勢(shì)表現(xiàn)在以下8個(gè)方面:

(1)在經(jīng)過(guò)等離子清洗以后,被清洗物體已經(jīng)很干燥,不必再經(jīng)干燥處理即可送往下道工序。

(2)不使用三氯乙甲ODS有害溶劑,清洗后也不會(huì)產(chǎn)生有害污染物,屬于有利于環(huán)保的綠色清洗方法。

(3)用無(wú)線電波范圍的高頻產(chǎn)生的等離子體與激光等直射光線不同,它的方向性不強(qiáng),因此它可以深入物體的微細(xì)孔眼和凹陷的內(nèi)部并完成清洗任務(wù),所以不必過(guò)多考慮被清洗物體形狀的影響,而且對(duì)這些難清洗部位的清洗效果與用氟里昂清洗的效果相似甚至更好。

(4)整個(gè)清洗工藝流程在幾分鐘即可完成,因此具有效率高的特點(diǎn)。

(5)等離子清洗需要控制的真空度約為100Pa,這種真空度在工廠實(shí)際生產(chǎn)中很容易實(shí)現(xiàn)。這種裝置的設(shè)備成本不高,加上清洗過(guò)程不需要使用價(jià)格昂貴的有機(jī)溶劑,因此它的運(yùn)行成本要低于傳統(tǒng)的清洗工藝。

(6)由于不需要對(duì)清洗液進(jìn)行運(yùn)輸、貯存、排放等處理措施,所以生產(chǎn)場(chǎng)地很容易保持清潔衛(wèi)生。

(7)等離子清洗的最大技術(shù)特點(diǎn)是:它不分處理對(duì)象,可處理不同的基材,無(wú)論是金屬、半導(dǎo)體、氧化物還是高分子材料(如聚丙烯、聚氯乙烯、據(jù)四氟乙烯、聚酰亞胺、聚酯、環(huán)氧樹脂等高聚物)都可用等離子體很好地處理,因此,特別適合不耐熱和不耐溶劑的基底材料。而且還可以有選擇地對(duì)材料的整體、局部或復(fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行部分清洗。

(8)在完成清晰去污的同時(shí),還能改變材料本身的表面性能,如提高表面的潤(rùn)濕性能,改善膜的附著力等,這在許多應(yīng)用中都是非常重要的。

 等離子清洗機(jī)清洗原理分析

等離子清洗機(jī)清洗原理

等離子體與材料表面可產(chǎn)生的反應(yīng)主要有兩種,一種是靠自由基來(lái)做化學(xué)反應(yīng),另一種則是靠等離子作物理反應(yīng),以下將作更詳細(xì)的說(shuō)明。

(1)化學(xué)反應(yīng)(Chemical reaction)

在化學(xué)反應(yīng)里常用的氣體有氫氣(H2)、氧氣(O2)、甲烷(CF4)等,這些氣體在電漿內(nèi)反應(yīng)成高活性的自由基,這些自由基會(huì)進(jìn)一步與材料表面作反應(yīng)。

其反應(yīng)機(jī)理主要是利用等離子體里的自由基來(lái)與材料表面做化學(xué)反應(yīng),在壓力較高時(shí),對(duì)自由基的產(chǎn)生較有利,所以若要以化學(xué)反應(yīng)為主時(shí),就必須控制較高的壓力來(lái)近進(jìn)行反應(yīng)。

(2)物理反應(yīng)(Physical reaction)

主要是利用等離子體里的離子作純物理的撞擊,把材料表面的原子或附著材料表面的原子打掉,由于離子在壓力較低時(shí)的平均自由基較輕長(zhǎng),有得能量的累積,因而在物理撞擊時(shí),離子的能量越高,越是有的作撞擊,所以若要以物理反應(yīng)為主時(shí),就必須控制較的壓力下來(lái)進(jìn)行反應(yīng),這樣清洗效果較好。

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